| 产品特性：可连续工作 | 加工定制：是 | 种类：废气除臭装置 |
| 品牌：昊晟环保 | 订货号：HSF | 货号：5K |
| 型号：HSF-5K | 处理浓度：200mg/L | 处理风量：5000-100000m3/h |
| 启燃温度：80℃ | 空速：0.5-2.0 | 适用领域：工业 |
| 规格：定制 | 是否跨境货源：否 |
一、概述
本产品利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而生成臭氧；
UV＋O2→O-+O＊(活性氧)O+O2→O3(臭氧),臭氧与呈游离状态污染物质原子聚合，生成新的、无害或低害物质，如CO2、H2O等。同时在污染体系中投加一定量的光敏半导体材料，结合一定量的光辐射，使光敏半导体在光的照射下激发产生电子-空穴对，吸附在半导体上的溶解氧、水分子等与电子-空穴作用，产生·HO等氧化性***的自由基，再通过与污染物之间的羟基加和、取代、电子转移等式污染物全部或接近全部氧化。
二、作用过程：
刺激性气味气体利用排风设备输入到UV光解净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭氧对恶臭气体进行协同裂解、氧化反应，使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物、水和 ，再通过排风管道排出室外。
三、产品特点：
本产品利用***的高能高臭氧UV紫外线光束照射恶臭气体物质分子键，裂解刺激性臭味气体物质如：氨、 、甲硫氢、 、 、 、 和 ，硫化物H2S、VOC类，苯、甲苯、二甲苯的分子键，在半导体催化剂的作用下，使呈游离状态的污染物原子与臭氧氧化聚合成小分子无害或低害物质，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解恶臭气体中的分子键，破坏核酸(DNA)，再通过臭氧，在半导体催化剂的作用下，进行催化氧化反应，***达到脱臭及菌的目的。
